制造半导体芯片一般分为四个步骤，沉积，光刻，刻蚀，灰化。光刻就是通过光刻胶把电路印制在基板上，然后再进行下一步的刻蚀过程。光刻机（Mask Aligner)又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫Mask Alignment System。一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。
光刻机是芯片制造的最为关键的设备，有着“皇冠上的明珠”之称，以光为刀，将设计好的电路图投射到硅片之上，因此有着“硅上雕花”之说。这是一种集合了数学、光学、流体力学、高分子物理与化学、表面物理与化学、精密仪器、机械、自动化、软件、图像识别领域顶尖技术的产物。目前最先进的EUV光刻机可以做到的雕刻精度是7nm，相当于一根头发的万分之一。
在工业领域中，最难做的事情并不是设计芯片，而是制造芯片，光刻机是芯片制造最为重要的设备之一，制造难度非常大，而就全球来说，也只有少数厂家能掌握，且价格不菲，最高端的EUV光刻机每台大约10亿元人民币，即便是中低端的光刻机产品，每台也要约2亿元人民币。要想实现芯片技术的完全自主，光刻机技术是中国目前亟需攻克的“拦路虎”之一。
